南通硅片腐蚀设备服务介绍 苏州晶淼半导体

腐蚀机设备

通常我们将于研究机械、工业、轻工电子、仪表等行业各种环境适应性和-性的试验设备称为多功能腐蚀机。该设备主要是通过高压喷淋及被蚀刻板直线运动形成连续不间断进料状态进行对工件腐蚀，从而达到提高生产效率的目的。

设备特点

腐蚀机设备的顶部一般都会设有百级·送风装置，碱槽设有超声波辅助清洗装置，而且酸槽设有上下抛动辅助清洗装置。就操作系统而言，该设备的控制机系统采用plc可程式控制器，并配上了10.4英寸彩色人机界面操作。除此之外，为了-地达到所想要的效果，它的后部都设有排风装置。

半导体清洗

半导体清洗机在清洁过程中使用普通自来水、酒精、溶剂来进行清洗就可以了。没有那么多各种各样的清洗剂。

半导体清洗机大功率换能器清洗效果-，可用肉眼观察到，清洗后物体闪亮发光。而且他是机械定时控制开机时间。全不锈钢外壳与盖子、内胆，更显*档。新版本的半导体清洗机在防水性方面大大改进，产品安全-，配了排水球阀，带加热配恒温系统，配不锈钢清洗篮可按照客户的要求设计制造。

清洗液的物理化学性质对清洗效果的影响

清洗液的静压力大时，不容易产生空化，所以在密闭加压容器中进行超声清洗或处理时效果较差

清洗剂的选择要从两个方面来考虑：一方面要从污物的性质来选择化学作用效果好的清洗剂；另一方面要选择表面张力、蒸气压及粘度合适的清洗剂，因为这些特性与超声空化强弱有关。液体的表面张力大则不容易产生空化，但是当声强超过空化阈值时，空化泡崩溃释放的能量也大，有利于清洗；高蒸气压的液体会降低空化强度，而液体的粘滞度大也不容易产生空化，因此蒸气压高和粘度大的洁洗剂都不利于超声清洗。

此外，清洗液的温度和静压力都对清洗效果有影响，清洗液温度升高时空化核增加，对空化的产生有利，但是温度过高，气泡中的蒸气压增大，空化强度会降低，所以温度的选择要同时考虑对空化强度的影响，也耍考虑清洗液的化学清洗作用每一种液体都有一空化活跃的温度，水较适宜的温度是60-80℃，此时空化活跃。