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湿法刻蚀机台,适用于半导体湿法刻蚀工艺,包括:支撑结构,支撑结构提供一支撑面用以支撑待刻蚀的晶圆;待刻蚀的晶圆与支撑面之间预设一预定距离,晶圆腐蚀设备,支撑面朝向待刻蚀的晶圆的一面均布有多个气体喷嘴;控温加热装置,连接边缘的气体喷嘴的气体管路,晶圆清洗设备,以加热气体管路内的保护气体;喷嘴装置,南京晶圆,设置于支撑面的上方,喷嘴装置包括一喷嘴与一液体输送管,喷嘴设置于朝向支撑面的一面,晶圆腐蚀台,液体输送管连接喷嘴背向支撑面的一端。
产品---,---高低温及高湿度等---环境。半导体生产厂家时时刻刻都想方设法降低成本,当然也有其它的因素如要求迫使他们改变封装型式。
目前已形成湿法清洗系统 刻蚀系统cds系统 尾气处理系统的四大系列数十种型号的产品,广泛直用于---集成电路、电力电子器件、分立器件、光电子器件、mems和太阳能电池等领域,以---的产品和优良的服务赢得了各界用户的赞许和---。
主要从事半导体设备、太阳能光伏设备、液晶湿制程设备、真空设备的研发和生产销售。其经营范围:半导体清洗设备、太阳能光伏设备组装、生产、设计、研发、销售。
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