苏州晶淼半导体(图)-LED清洗机-南通LED

硅片清洗烘干

方法：湿法清洗＋去离子水冲洗＋脱水烘焙热板150～2500c,1～2分钟，氮气保护

目的：a、除去表面的污染物颗粒、有机物、工艺残余、可动离子；b、除去水蒸气，是基底表面由亲水性变为憎水性，增强表面的黏附性对光刻胶或者是hmds-〉二硅胺烷。

化学清洗槽也叫酸槽/化学槽，主要有hf,,h2so4,h2o2，hcl等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，去离子,去原子，后还有di清洗。ipa是，就是工业酒精，是用来clean机台或parts的，是为了减少partical的。

微电子技术在于其集成电路芯片的制造，结合微电子技术的发展历程来看，---的微电子技术的发展都是在不断的突破集成电路单个芯片元件的集成数量，现今，单个芯片上能够集成近5亿各电子元器件，该集成数量已经超过---集成规模的---，但从物理规律角度来看，微电子技术的发展依然受到其自身客观---。

化学清洗槽也叫酸槽/化学槽，主要有hf,,h2so4,h2o2，hcl等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，去离子,去原子，后还有di清洗。ipa是，就是工业酒精，是用来clean机台或parts的，是为了减少partical的。