镇江清洗机-苏州晶淼半导体-腐蚀清洗机

喷覆足够不能太多，超声波清洗机，小化背面湿度的显影液到硅片表面，并形成水坑形状显影液的流动保持较低，镇江清洗机，以减少边缘显影速率的变 化。硅片固定或慢慢旋转。一般采用多次旋覆显影液：涂覆、保持10～30秒、去除；第二次涂覆、保持、去除。然后用去离子水冲洗去除硅片两面的 所有化学品并旋转甩干。优点：显影液用量少；硅片显影均匀；。

全自动湿法超声波胶塞清洗机由清洗机构、热风机构、出料机构、全自动控制机构、吸料机构、蒸汽装置和抽真空装置组成。吸料机构由吸料管和抽真空装置组成，腐蚀清洗机，抽真空装置包括真空泵、水分离器、管道和阀门，真空泵前连通有水分离器，真空泵后和清洗箱连通，蒸汽装置由蒸汽喷管、管道和阀门构成，蒸汽管道通过蒸汽进汽阀和清洗箱内的蒸汽喷管连通，灭菌效果好，时间大大缩短。胶塞内外含水率低，半导体清洗设备，保用期长，吸料快，不损伤胶塞。