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适用于硅片晶圆湿法清洗、湿法刻蚀、显影、去胶、lift-off等工艺;标准吸盘适用于2-12英寸晶圆,其它规格可定制;一体式清洗腔体;进口伺服电机控制,硅芯腐蚀机,转速及工艺时间参数可自由设定;采用进口旋转电机,运行安静平稳,故障率低;真空吸盘采用peek+ptfe材质,强度高、耐腐蚀、密封性能好;载片台采用真空吸附+pin定位,硅芯清洗机,防止甩片碎片;真空度≤-100kpa;化学液及纯水自动供应,流量可视可调;可装配装取片机器人;配套药液供应系统;配有兆声清洗,兆声频率280-950khz可选,功率连续可调;可配置滚刷刷洗;
在对液晶玻璃进行的等离子清洗中,使用的活化气体是氧的等离子体,它能除去油性污垢和有机污染物粒子,因为氧等离子体可将有机物氧化并形成气体排出。它的问题是需要在去除粒子后加入一个除静电装置,其清洗工艺如下:
吹气--氧等离子体--除静电
通过干式洗净工艺后的lcd及其电极ito,洁净度、粘结性得到大大---相关产品:---等离子 , ---等离子清洗机 , ---等离子表面活化 , ---等离子表面清洗 , ---等离子表面刻蚀 ,宿迁硅芯, 常温常压等离子 , 常温常压等离子设备 , 等离子清洗 , 等离子除尘 , 等离子刻蚀 , 等离子接枝 , 等离子沉积 , 等离子改性 , 等
1.该设备为单工位多工能清洗工艺,主要由:旋转洗剂刷洗、旋转喷淋漂洗及旋转甩干三部分组成;整个清洗流程为全自动工作方式;只需人员完成放料出即可;
2.该设备设计合理,充分考虑了和节能的要求;
3.采用全封闭式结构,设备封罩前、上、左右设透明钢化玻璃;可时时观察产品清洗情况;
4.设备后部设有洗剂副槽和漂洗水副槽,设备底部设有各自供液泵;
5、旋转机构主要由:电机、旋转基座、旋转盘、产品及工装组成;
6、旋转盘转速由三菱变频器控制;
7、设封罩上设有排气口,保持运行时的风始终外溢,全自动硅芯清洗机,避免清洗室内产生水汽,也不会对清洗的产品产生二次污染;
8、设备正面设有后翻式气缸门,供进出料用;
9、每个工艺工序清洗、刷干时间可跟据实际情况在触摸上设定;
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